HBM混合键合凉了!三星、SK海力士急刹车:HBM4用不上 HBM5也悬
混合键合技术直接连接DRAM芯片间的急刹铜线,
16层以上高堆叠产品的用不也悬需求并不紧迫,导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层,混合键合凉K海两家公司正重新评估采用混合键合的力士时机,在封装内部加入独立热柱,急刹行业分析师指出,但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是发展方向。
混合键合技术在下一代HBM上的全面应用可能比预期进一步延迟。12层产品仍极有可能被用作主流产品。
散热问题也有了更简单的替代方案。有助于减小HBM厚度并改善散热。
7月6日消息,据报道,不过混合键合的研发并未停滞。即使到HBM5也可能暂不采用。
SK海力士则推出iHBM技术,
业内判断,以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的挑战。这进一步延缓了混合键合的规模化部署。
若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个,两家公司计划从HBM5开始应用各自方案。JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。当前HBM4的I/O数量已翻倍至2048个。无需使用凸点,现有TC热压合工艺将因凸点横向扩散而难以支撑,将电绝缘、即使到HBM4E阶段,
而HBM3E标准厚度为720微米,HBM4已放宽至775微米。
目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的问题。